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| CVDBN陶瓷与金属接合机理研究 | |
| 引用本文： | 鲁燕萍,胡美华.CVDBN陶瓷与金属接合机理研究[J].真空科学与技术,1999,19(1):25-30. |
| 作者姓名： | 鲁燕萍 胡美华 |
| 作者单位： | 北京真空电子技术研究所 |
| 摘 要： | 利用ＳＥＭ／ＥＤＸ、ＸＰＳ及Ｘ射线粉末衍射手段，对ＣＶＤＢＮ陶瓷与金属（无氧铜、钛）的接全机进行了分析，并用反应自由焓函数法对ＣＶＤＢＮ陶瓷与金属的界面反应作了热力学计算。结论认为ＣＶＤＢＮ陶瓷对无氧铜、钛的气密接合主要依靠活性焊料与ＣＶＤＢＮ陶瓷表面层间的相互扩散及反应。 |
| 关 键 词： | 化学气相沉积 氮化硼陶瓷 接合机理 金属 |
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