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| Si片上PbTiO3薄膜的XPS研究 | |
| 引用本文： | 汪贵华,杨伟毅.Si片上PbTiO3薄膜的XPS研究[J].真空科学与技术,1999,19(2):97-101. |
| 作者姓名： | 汪贵华 杨伟毅 |
| 作者单位： | 南京理工大学电子工程与光电技术学院 |
| 摘 要： | 用溶胶－凝胶方法在Ｓｉ上成功地制备了钙钛矿型的ＰｂＴｉＯ３薄膜。Ｘ射线衍射结果显示，在热处理温度为７５０￣９００℃范围内，随温度升高，薄膜由多晶转变为定向结晶。Ｘ射线光电子能谱分析发现，薄膜表面存在ＳｉＯ２薄层，其厚度大约为０．６ｎｍ，该薄层是在制膜过程中衬底Ｓｉ通过ＰｂＴｉＯ３薄膜扩散到表面与大气中的Ｏ２反应而形成的。在７５０℃热处理的薄膜，膜层中不含ＳｉＯ２，但温度升高，膜层中存在ＳｉＯ２成分 |
| 关 键 词： | 溶胶－凝胶法 钛酸铅 薄膜 硅 铁电薄膜 XPS研究 |
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