|
|||||
|
|
| 聚焦离子束装置用的镓液态金属离子源的研制 | |
| 引用本文： | 朱一心,黄焕文,何喜冠,杨建生,宗庆,余永雄,贾京英.聚焦离子束装置用的镓液态金属离子源的研制[J].微细加工技术,1985(2). |
| 作者姓名： | 朱一心 黄焕文 何喜冠 杨建生 宗庆 余永雄 贾京英 |
| 作者单位： | 长沙半导体工艺设备研究所 (朱一心，黄焕文，何喜冠，杨建生，宗庆，余永雄)，长沙半导体工艺设备研究所(贾京英) |
| 摘 要： | 本文介绍一种可供聚焦离子束装置用的镓液态金属离子源。该离子源的亮度高、发射源尺寸极小、发射电流稳定、调节方便、没有气体负载,适用于各种超高真空装置,是进行微离子束技术和表面分析技术开发性研究的关键部件之一。 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |