| 射频反应磁控溅射制备低辐射薄膜 |
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| 引用本文： | 金炯,董树荣,王德苗. 射频反应磁控溅射制备低辐射薄膜[J]. 真空科学与技术学报, 2006, 26(1): 28-31,56 |
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| 作者姓名： | 金炯 董树荣 王德苗 |
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| 作者单位： | 浙江大学信息与电子工程系,杭州,3100027 |
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| 摘 要： | 采用射频反应磁控溅射法制备了低辐射薄膜.对低辐射膜的薄膜结构的设计和测试结果表明：较合适的膜层结构是空气/二氧化钛/钛/银/二氧化钛/玻璃基片的多层结构.用扫描电镜分析了保护层钛层的作用,研究表明：银膜很容易氧化失效,失去反射红外紫外光作用,在表面镀覆钛保护层可以很好地保护银,避免银氧化,从而提高使用寿命.用分光光度计测试样品的透射率,当保护层钛层厚度为1 nm时,相应的膜系在可见光区（380 nm～780 nm）,最高透射率可达82.4%,平均透射率是75%;在近红外区（780 nm～2500 nm）的平均透射率为16.2%,可以满足建筑物幕墙玻璃等低辐射膜的要求.
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| 关 键 词： | 低辐射薄膜 射频磁控溅射 保护层 多层膜 透射率 |
| 文章编号： | 1672-7126（2006）01-028-04 |
| 收稿时间： | 2005-05-16 |
| 修稿时间： | 2005-05-16 |
Growth of Low-Emissivity Films by RF Magnetron Reactive Sputtering |
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| Jin Jiong,Dong Shurong,Wang Demiao. Growth of Low-Emissivity Films by RF Magnetron Reactive Sputtering[J]. JOurnal of Vacuum Science and Technology, 2006, 26(1): 28-31,56 |
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| Authors: | Jin Jiong Dong Shurong Wang Demiao |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Low-E films RF magnetmn sputtering Protective layer Muhilayers films Transmittance |
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