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热处理对铜玷污单晶锗(111)光学性能的影响
引用本文:孙法,蒋敏,张亚萍,张秀芳,张瑞丽,姚晓辉,席珍强.热处理对铜玷污单晶锗(111)光学性能的影响[J].浙江理工大学学报,2010,27(2):269-271,282.
作者姓名:孙法  蒋敏  张亚萍  张秀芳  张瑞丽  姚晓辉  席珍强
作者单位:1. 浙江理工大学材料工程中心,杭州,310018
2. 杭州士兰集成电路有限公司,杭州,310018
摘    要:采用傅里叶红外光谱测试技术,研究快速热处理(RTP)和常规热处理(CFP)对表面铜玷污单晶锗红外透过率的影响。结果表明:样品的红外透过率随热处理温度的上升呈增大趋势。样品经过短时间抛光后,红外透过率恢复至初始大小。分析表明Cu-Ge的互扩散及界面反应是造成透过率改变的主要原因。

关 键 词:常规热处理  快速热处理  红外透过率  单晶锗

Effect of Thermal Processing on the Optical Properties of Copper-Contaminated Single-Crystalline Germanium
Abstract:
Keywords:
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