Pd基光学氢敏感薄膜材料的研究进展

Pd基光学氢敏感薄膜材料是光学氢敏感薄膜材料最为重要的一类,主要包括Pd,Pd／Ni合金,Pd／WO3,Pd／MoO3,Pd／TiOx,Pd／MoS2等薄膜材料。本文从这类薄膜材料的制备、性能及应用方面,对Pd基光学氢敏感薄膜材料的研究进展作了详细的论述。目前Pd基光学氢敏感薄膜材料的制备主要还是应用溅射法。在所有钯基氢敏感材料中以Pd膜的性能最佳,但是由于在应用过程中存在Pd膜出现表面起泡、层错和钯膜与载体结合能力下降等缺陷,因此Pd／Ni合金,Pd／WO3,Pd／MoO3,Pd／TiOx,Pd／MoS2等薄膜材料相继被开发。但目前上述薄膜材料在研究和应用中仍然存在许多问题,本文在论述中分别提出了上述材料目前研究中存在的问题以及今后的发展方向。