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基于MPC和CCC的XY平台鲁棒跟踪控制
引用本文:赵希梅,孙显峰,戴朝辉. 基于MPC和CCC的XY平台鲁棒跟踪控制[J]. 制造技术与机床, 2013, 0(2)
作者姓名:赵希梅  孙显峰  戴朝辉
作者单位:沈阳工业大学电气工程学院,辽宁沈阳,110870
基金项目:国家自然科学基金项目,沈阳市科技局计划项目
摘    要:针对XY平台伺服系统在位置定位过程中由于扰动、摩擦等因素造成的轮廓误差的问题,提出将模型预测控制器(MPC)和交叉耦合控制器(CCC)相结合的控制方法.预测控制器通过多步测试、滚动优化和反馈校正等方法对XY平台单轴的定位精度进行优化,减小XY平台系统的跟踪误差.同时采用交叉耦合控制器对系统进行解耦,以解决两轴之间的耦合问题,进而减小系统的轮廓误差,提高系统的轮廓精度.最后通过仿真实验,验证所提出的控制方案是可行的,既保证了系统的鲁棒性,又提高了系统的跟踪精度,进而改善系统的轮廓加工精度.

关 键 词:XY平台  轮廓误差  模型预测控制器  交叉耦合控制器

Robust tracking control of XY table based on MPC and CCC
ZHAO Ximei , SUN Xianfeng , DAI Zhaohui. Robust tracking control of XY table based on MPC and CCC[J]. Manufacturing Technology & Machine Tool, 2013, 0(2)
Authors:ZHAO Ximei    SUN Xianfeng    DAI Zhaohui
Abstract:
Keywords:
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