前言

本世纪中叶以来,随着半导体技术的飞速发展,人们对以电子束、离子束和光子束技术为代表的半导体新工艺技术的研究、开发及应用越来越深入广泛。其中,离子注入技术的发展更为突出,现已成为半导体器件和大规模集成电路制造的重要技术基础之一,并在材料改性等方面开辟了新的应用领域。