| 不同厚度ZnO薄膜取向和应力的研究 |
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| 引用本文： | 李俊红,徐联,解述.不同厚度ZnO薄膜取向和应力的研究[J].压电与声光,2009,31(2). |
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| 作者姓名： | 李俊红 徐联 解述 |
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| 作者单位： | 中国科学院,声学研究所,北京,100190 |
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| 摘 要： | 采用直流磁控溅射技术制备了厚度为600～1 600 am的ZnO薄膜,利用XRD对薄膜的相结构进行了分析,利用薄膜应力分析仪对薄膜的应力进行了分析.结果表明:所有的薄膜都沿(002)方向高度择优.随着薄膜厚度的增加,ZnO薄膜的晶体质量得到提高,各种缺陷逐渐减小;ZnO薄膜的内应力为压应力;随着厚度的增加,ZnO薄膜的平均应力逐渐减小,并且应力分布趋于均匀.
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| 关 键 词： | ZnO薄膜 膜厚 微观结构 应力分布 |
Research on the Orientation and Stress of ZnO Films with Different Thickness |
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| LI Jun-hong,XU Lian,XIE Shu.Research on the Orientation and Stress of ZnO Films with Different Thickness[J].Piezoelectrics & Acoustooptics,2009,31(2). |
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| Authors: | LI Jun-hong XU Lian XIE Shu |
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