采用反应性离子镀渗法在高速钢上涂复TiN

研究了工艺参数对 TiN 的形成和镀层性质(如硬度、组织、晶体结构和耐磨性)的影响。用带有正偏压探测极的反应性离子镀技术在高速钢基板上沉积 TiN。由于探测极上带有正电位,在熔融钛的坩埚上方形成活性区域,从而加速钛和氮之间的反应。在探测极电流为150毫安、氮分压为9.3×10~(-2)巴、基极温度为500℃的条件下,所形成 TiN镀层的努普硬度约为 HK=1750(载荷为10克,镀膜厚度为5微米)。与相同热处理情况下未镀渗的高速钢相比,它具有极为优良的耐磨性。