| 非平衡磁控溅射TiCxN1-x薄膜微结构及性能分析 |
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| 引用本文： | 弥谦,王庆喜,惠迎雪. 非平衡磁控溅射TiCxN1-x薄膜微结构及性能分析[J]. 西安工业大学学报, 2008, 28(1): 1-6 |
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| 作者姓名： | 弥谦 王庆喜 惠迎雪 |
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| 作者单位： | 西安工业大学光电工程学院,西安710032 |
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| 摘 要： | 为了研究不同沉积条件下TiCxN1-x(0≤x≤1)薄膜的相结构、显微硬度及摩擦性能的影响因素,用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪分析薄膜的形貌和相结构,用HXD-1000数字式显微硬度计、MCMS-1摩擦磨损仪测试薄膜的硬度和摩擦系数.研究结果表明:TiN,TiC薄膜显示出〈111〉择优取向生长趋势,Ti(C,N)有较强的〈200〉取向,Ti(C,N)衍射峰涵盖了TiN峰和TiC峰,薄膜存在TiN和TiC两相共存.与TiN,TiC相比,Ti(C,N)薄膜具有更高硬度,当C原子含量x＝0.582时,Ti(C,N)薄膜硬度达到最大值为33.6 GPa,且表现出更低的摩擦系数和更好的耐磨性能.
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| 关 键 词： | 非平衡磁控溅射(UBMS) TiCxN1-x薄膜 硬度 摩擦系数 非平衡 磁控溅射 薄膜微结构 性能分析 Magnetron Sputtering Films 耐磨性能 表现 最大值 薄膜硬度 含量 原子 高硬度 相共存 存在 衍射峰 择优取向 生长趋势 显示 结果 |
| 文章编号： | 1673-9965(2008)01-001-05 |
| 修稿时间： | 2007-12-21 |
Micro-Structure and Mechanical Properties of TiCxN1-x Films Deposited by Unbalanced Magnetron Sputtering |
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| MI Qian,WANG Qing-xi,XI Ying-xue. Micro-Structure and Mechanical Properties of TiCxN1-x Films Deposited by Unbalanced Magnetron Sputtering[J]. Journal of Xi'an Institute of Technology, 2008, 28(1): 1-6 |
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| Authors: | MI Qian WANG Qing-xi XI Ying-xue |
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