掺锡对α—Fe2O3薄膜微结构和气敏特性的影响研究 |
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作者姓名: | 柴常春 彭军 |
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作者单位: | 西安电子科技大学微电子研究所,西安通信学院程控教研室 |
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摘 要: | 本文用常压化学气相淀积法(APCVD)制备了α-Fe2O3薄膜,对所制备的薄膜进行了X射线衍射分析和表面形貌(SEM)分析。对薄膜的气敏特性进行了测量。结果表明,用APCVD工艺制备的α-Fe2O3薄膜对烟者极为敏感并且具有良好的选择性;本研究还对所制备的α-Fe2O3薄膜进行了有效的掺杂,对掺杂样品的气敏特性测试表明四价金属元素Sn的掺入对α-Fe2O3薄膜的气敏特性有显著的影响。实验表明用AP
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关 键 词: | APCVD 氧化铁 薄膜 气敏特性 |
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