| 铁氧体基材上磁控溅射可焊性薄膜 |
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| 引用本文： | 张晔,胡江华.铁氧体基材上磁控溅射可焊性薄膜[J].新技术新工艺,2008(8). |
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| 作者姓名： | 张晔 胡江华 |
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| 作者单位： | 中国电子科技集团公司,第38研究所,安徽,合肥,230031 |
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| 摘 要： | 通过比较铁氧体表面金属化的多种方式,详细介绍了磁控溅射法对铁氧体基材进行金属化处理的工艺过程,并对利用该工艺制备的金属复合膜层进行了性能测试.测试结果表明,该工艺完全能满足铁氧体微波器件的焊接性能要求.
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| 关 键 词： | 铁氧体 磁控溅射 复合膜 |
Magnetron Sputtering Weldability Thin Films Based on the Ferrites Parent Metal |
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| ZHANG Ye,HU Jianghua.Magnetron Sputtering Weldability Thin Films Based on the Ferrites Parent Metal[J].New Technology & New Process,2008(8). |
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| Authors: | ZHANG Ye HU Jianghua |
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