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低阈值高效率InAIGaAs量子阱808nm激光器
引用本文:李建军 韩军 邓军 邹德恕 沈光地. 低阈值高效率InAIGaAs量子阱808nm激光器[J]. 中国激光, 2006, 33(9): 159-1162
作者姓名:李建军 韩军 邓军 邹德恕 沈光地
作者单位:北京工业大学北京光电子技术实验室,北京100022
基金项目:北京市优秀人才培养专项经费(67002013200303)和北京市人才强教计划--学术创新团队(05002015200504)资助项目.
摘    要:以Al0.3Ga0.7 As/InAlGaAs/Al0.3Ga0.7As压应变量子阱代替传统的无应变量子阱作为有源区,实现降低808nm半导体激光器的阈值电流,并提高器件的效率。首先优化设计了器件结构,并利用金属有机物化学气相淀积(MOCVD)进行了器件的外延生长。通过优化外延生长条件,保证了5.08cm片内的量子阱(OW)光致发光(PL)光谱峰值波长均匀性达0.1%。对于条宽为50/zm,腔长为750/zm的器件,经镀膜后的阈值电流为81mA,斜率效率为1.22W/A,功率转换效率达53.7%。变腔长实验得到器件的腔损耗仅为2cm^-1,内量子效率达90%。结果表明,压应变量子阱半导体激光器具有更优异的特性。

关 键 词:激光器 InAlGaAs量子阱 金属有机物化学气相淀积
文章编号:0258-7025(2006)09-1159-04
收稿时间:2006-02-21
修稿时间:2006-05-08

InAIGaAs Quantum Well 808 nm Laser Diode with Low Threshold Current and High Efficiency
LI Jian-jun, HAN Jun, DENG Jun, ZOU De-su, SHEN Guang-di. InAIGaAs Quantum Well 808 nm Laser Diode with Low Threshold Current and High Efficiency[J]. Chinese Journal of Lasers, 2006, 33(9): 159-1162
Authors:LI Jian-jun   HAN Jun   DENG Jun   ZOU De-su   SHEN Guang-di
Affiliation:Beijing Optoelectronic Technology Laboratory, Beijing University of Technology, Beijing 100022, China
Abstract:
Keywords:lasers   InAlGaAs quantum well   metal organic chemical vapor deposition
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