| 较薄坡莫合金薄膜的磁性能和结构 |
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| 引用本文： | 于广华,赵洪辰,朱逢吾,夏洋.较薄坡莫合金薄膜的磁性能和结构[J].真空科学与技术学报,2001,21(5):419-422. |
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| 作者姓名： | 于广华 赵洪辰 朱逢吾 夏洋 |
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| 作者单位： | 1. 北京科技大学材料物理系
2. 中国科学院微电子中心, |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金重大项目(19890310) |
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| 摘 要： | 基于辉光放电原理在不同的溅射气压下制备的NiFe薄膜,发现较低溅射气压下比较高溅射气压下制备的NiFe薄膜的磁性能要好得多.较低溅射气压下制备的NiFe(12nm)薄膜,各向异性磁电阻(AMR)值达到1.2%,而其矫顽力却只有127.4A/m.结构分析表明较低溅射气压下制备的NiFe薄膜结构缺陷较少,内应力小;而较高溅射气压下制备的NiFe薄膜结构缺陷较多,内应力大.
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| 关 键 词： | NiFe薄膜 各向异性磁电阻 矫顽力 内应力 |
| 文章编号： | 0253-9748(2001)05-0419-04 |
| 修稿时间： | 2000年11月6日 |
The Structures and Magnetic Properties of Permalloy Very Thin Films |
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| Yu Guanghua,Zhao Hongchen,Zhu Fengwu.The Structures and Magnetic Properties of Permalloy Very Thin Films[J].JOurnal of Vacuum Science and Technology,2001,21(5):419-422. |
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| Authors: | Yu Guanghua Zhao Hongchen Zhu Fengwu |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | NiFe thin film Anistropic magnetoresistance Coercivity Inner stress |
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