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分类号
杂志ISSN号
同步辐射X射线光刻实验研究
作者姓名:
谢常青 朱樟震
作者单位:
中国科学院微电子中心,中国科学院高能所
摘 要:
采用侧墙工艺技术研制深亚微米X射线掩模,并在北京同步辐射装置光刻束线上进行了同步辐射X射线曝光实验,初步获得了深亚微米光刻图形。
关 键 词:
同步辐射 X射线光刻 X射线掩模 侧墙工艺
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