| 离子束辅助沉积制备多晶Al_2O_3薄膜 |
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| 引用本文： | 王晨,杨杰,范玉殿,陶琨. 离子束辅助沉积制备多晶Al_2O_3薄膜[J]. 材料研究学报, 1993, 7(6): 521-525 |
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| 作者姓名： | 王晨 杨杰 范玉殿 陶琨 |
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| 作者单位： | 清华大学材料科学与工程系，清华大学，清华大学，清华大学 北京市 100084 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金 69391200 |
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| 摘 要： | 利用电子枪蒸镀 Al_2O_3,同时辅以 Ar 离子轰击的离子束辅助沉积方法(IBAD)制备 Al_2O_3薄膜,并与单纯电子枪蒸镀方法(PVD)制备的薄膜进行了结构和表面形貌的比较。IBAD 法可以得到结构均匀致密的γ-Al_2O_3晶态薄膜,而 PVD 方法仅能得到非晶态疏松的结构。分析结果表明,薄膜沉积过程中,提高离子轰击能量和增加基片加热温度在一定程度上具有相同的效果。
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| 关 键 词： | 离子束辅助沉积 氧化铝 薄膜 |
| 收稿时间： | 1993-12-25 |
| 修稿时间： | 1993-12-25 |
POLYCRYSTALLINE Al_2O_3 FILM PREPARED BY IBAD |
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| WANG Chen,YANG Jie,FAN Yudian,TAO Kun. POLYCRYSTALLINE Al_2O_3 FILM PREPARED BY IBAD[J]. Chinese Journal of Materials Research, 1993, 7(6): 521-525 |
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| Authors: | WANG Chen YANG Jie FAN Yudian TAO Kun |
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| Affiliation: | Tsinghua University |
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