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| 工艺参数对Ni-SiO_2镀层耐蚀性的影响 | |
| 引用本文： | 李建芳,周言敏.工艺参数对Ni-SiO_2镀层耐蚀性的影响[J].电镀与环保,2014(3). |
| 作者姓名： | 李建芳 周言敏 |
| 作者单位： | 重庆电子工程职业学院应用电子学院; |
| 基金项目： | 重庆市科委自然科学基金计划资助项目(cstc2012jjA10129) |
| 摘 要： | 在超声波环境中电沉积制备Ni-SiO2镀层。选取腐蚀速率作为指标,系统地研究了工艺参数对Ni-SiO2镀层耐蚀性的影响。结果表明:Ni-SiO2镀层的腐蚀速率随电流密度的增加和施镀时间的延长大幅增大,随镀液温度的升高微幅增大,但随超声波功率的增大先减小后增大。在超声波功率380 W,电流密度3A/dm2,镀液温度40℃,施镀时间10min的条件下,制备的Ni-SiO2镀层表现出优良的耐蚀性,在质量分数为15%的HCl溶液中的腐蚀速率为0.01mg/(mm2·d)。 |
| 关 键 词： | 耐蚀性 镀层 Ni-SiO 工艺参数 |
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