离子束增强沉积制备TiB2薄膜及其性能研究 |
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引用本文: | 况园珠,白新德.离子束增强沉积制备TiB2薄膜及其性能研究[J].真空科学与技术,1995,15(3):185-189. |
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作者姓名: | 况园珠 白新德 |
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摘 要: | 用离子束增强沉积法(IBED)在硅及铜基体上沉积了TiB2薄膜,研究了轰击离子束能量和束流对薄膜的微结构及力学性能的影响。用俄歇电子谱(AES)分析了膜的成分及其界面状况,用X射线衍(XRD)研究了膜的微结构,并测定了膜的硬度及进行膜的高温氧化试验。结果指出:(1)离子束轰击使薄膜晶化,从而影响到膜的硬度及抗高温氧化性能;(2)离子呸增强的二硼化钛薄膜是一种耐高温氧化的高硬膜。
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关 键 词: | 离子束增强沉积 二硼化钛薄膜 晶化 |
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