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热退火对银/铬薄膜界面结构的影响
作者姓名:潘峰 陶琨
摘    要:利用卢瑟福背散射分析和X射线衍射技术,研究了热退火对采用气相沉积方法在AlN基体上制备的Cr/Ag薄膜的界面结构的影响,样品的退火温度范围为200-650℃,实验结果表明:当退火温度达到350℃时,Cr/Ag界面开始互扩散,当退火温度超过550℃,大量铬原子通过银层向试样表面扩散。

关 键 词:薄膜 界面扩散 银/铬 热退火
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