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| 压力对电弧源喷射微粒密度及膜沉积率的影响 | |
| 引用本文： | 张世良,陈鹏.压力对电弧源喷射微粒密度及膜沉积率的影响[J].真空与低温,1990,9(2):23-26. |
| 作者姓名： | 张世良 陈鹏 |
| 作者单位： | 兰州物理研究所，兰州物理研究所，兰州物理研究所，兰州物理研究所，兰州物理研究所，兰州物理研究所 |
| 摘 要： | 在2.7Pa 至2.7×10~(-2)Pa 氮压力范围,测量了不同压力下电弧源喷射的微粒密度及薄膜沉积速率的变化。随压力升高,微粒密度及膜沉积速率下降。利用 AES 和 SIMS 对不同压力下形成的 TiN 膜及工作后的阴极表面进行了深度剖面分析。最后对实验结果进行了讨论。 |
| 关 键 词： | 真空镀膜 电弧镀 沉积速率 |
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