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离子束溅射制备CdS多晶薄膜及性能研究
引用本文:范平,梁广兴,张东平,蔡兴民,池京容,李盛艺. 离子束溅射制备CdS多晶薄膜及性能研究[J]. 功能材料, 2010, 41(Z2)
作者姓名:范平  梁广兴  张东平  蔡兴民  池京容  李盛艺
作者单位:深圳大学,物理科学与技术学院薄膜物理与应用研究所,广东,深圳,518060
基金项目:广东省自然科学基金资助项目,深圳市科技计划资助项目 
摘    要:采用离子束溅射的方法在玻璃衬底上制备CdS多晶薄膜,研究了沉积过程中基底温度(100~400℃)与薄膜厚度(35~200nm)对其微结构与光电性能的影响。结果表明,不同基底温度下制备的CdS薄膜均属于六方相多晶结构且具有(002)择优取向生长特征;随着基底温度的升高,(002)特征衍射峰强度增加,半高宽变小相应薄膜结晶度增大,有利于颗粒的生长;分析CdS薄膜的光谱图线可知,薄膜在可见光区平均透射率高于75%,光学带隙值随着基底温度升高而增大(2.33~2.42eV)且薄膜电阻高达109Ω;在基底温度为400℃条件下制备不同厚度的CdS薄膜,发现(50~100nm)较薄的CdS薄膜具有较为明显的六方相CdS多晶薄膜结构、较优光学性能和高电阻值,满足CIS基太阳电池中缓冲层材料的基本要求。

关 键 词:CdS薄膜  离子束溅射  微结构  光电性能

Growth and characterization of polycrystalline CdS thin films prepared by ion beam sputtering deposition
FAN Ping,LIANG Guang-xing,ZHANG Dong-ping,CAI Xing-min,CHI Jing-rong,LI Sheng-yi. Growth and characterization of polycrystalline CdS thin films prepared by ion beam sputtering deposition[J]. Journal of Functional Materials, 2010, 41(Z2)
Authors:FAN Ping  LIANG Guang-xing  ZHANG Dong-ping  CAI Xing-min  CHI Jing-rong  LI Sheng-yi
Abstract:
Keywords:
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