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GaAs/(Pd,Ti,Pd,Au)多层膜的退火扩散机制
引用本文:罗广圣,李长全,钟文斌. GaAs/(Pd,Ti,Pd,Au)多层膜的退火扩散机制[J]. 南昌大学学报(工科版), 2001, 23(2): 87-90
作者姓名:罗广圣  李长全  钟文斌
作者单位:南昌大学化学与材料科学学院
基金项目:江西省自然科学基金资助项目 ( 9950 0 35)
摘    要:采用扫描俄歇电子能谱法,对GaAs/Pd(50A)Ti(400A)Pd(400A)Au(2000A)在不同退火条件下多层膜间的扩散机制进行了研究.结果表明,薄膜与衬底结合较好,各层薄膜之间的扩散随退火温度的升高而更加充分,在450℃以上退火后,各层薄膜之间发生了充分的扩散,并且薄膜与衬底结合更好.

关 键 词:扫描俄歇电子能谱 多层膜 退火 扩散
文章编号:1006-0456(2001)02-0087-04
修稿时间:2001-02-26

The Anneal Diffusion Mechanism of GaAs/(Pd,Ti,Pd,Au) Multi-layer Films
LUO Guang-sheng,LI Chang-quan,ZHONG Wen-bin. The Anneal Diffusion Mechanism of GaAs/(Pd,Ti,Pd,Au) Multi-layer Films[J]. Journal of Nanchang University(Engineering & Technology Edition), 2001, 23(2): 87-90
Authors:LUO Guang-sheng  LI Chang-quan  ZHONG Wen-bin
Abstract:
Keywords:scanning Auger electron spectroscopy  multi-layer films  anneal  diffusion
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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