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电化学外延生长亚稳态Co薄膜的结构和磁性表征
引用本文:李宗木,徐法强,孙秀玉,张文华,王立武.电化学外延生长亚稳态Co薄膜的结构和磁性表征[J].国外金属材料,2007,14(6):5-9.
作者姓名:李宗木  徐法强  孙秀玉  张文华  王立武
作者单位:中国科学技术大学国家同步辐射实验室,安徽合肥230029
摘    要:用循环伏安法在单晶Cu(110)上沉积了亚稳态fcc相的Co磁性薄膜,并用法拉第定律估算了薄膜的厚度约为17nm。X射线衍射结果表明薄膜具有(100)的单一取向结构,而用同样方法沉积在多晶Pt片上的Co薄膜则是六方多晶结构。用扫描电子显微镜、X射线以及同步辐射光电子能谱对薄膜的表面形貌、组成以及元素的化学态进行了表征,结果表明循环伏安法制备的薄膜平整连续,Co薄膜没有明显的氧化现象;磁性测量结果表明外延生长的薄膜具有典型的软磁特征,矫顽力约为100Oe,剩磁比约0.86。软X射线磁性圆二色实验结果计算得到Co薄膜的自旋磁矩和轨道磁矩非常接近于Co体相材料的数据。

关 键 词:电化学沉积  循环伏安法  Co磁性薄膜  光电子能谱
文章编号:1005-8192(2007)06-0005-05
收稿时间:2007-05-28

Characterization of the Magnetism and Structure of Metastable Co Films Grown by Electrochemical Epitaxy
Authors:LI Zong-mu  XU Fa-qiang  SUN Xiu-yu  ZHANG Wen-huan  WANG Li-wu  WANG Jie
Abstract:
Keywords:electrochemical epitaxy  cyclic voltammetry  magnetic thinfilms  photoemission spectroscopy
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