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| 两步气压烧结Si3N4陶瓷 | |
| 引用本文： | 时振海.两步气压烧结Si3N4陶瓷[J].佛山陶瓷,2000,10(5):19-20. |
| 作者姓名： | 时振海 |
| 作者单位： | 山西省玻璃陶瓷研究所,030013 |
| 摘 要： | 通过先使Si3N4陶瓷材料在1750℃、1MPa氮气压力下烧结,再在1950℃、7MPa氮气压力下烧结,从而获得高性能的Si3N4陶瓷材料,其抗弯强度为725MPa,断裂韧性为7.8MPa·m1/2. |
| 关 键 词： | 两步气压烧结 晶界 玻璃相 抗弯强度 断裂韧性 氧化硅陶瓷 |
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