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| 超深亚微米工艺时代集成电路设计领域所面临的技术挑战 | |
| 作者姓名： | 蒋安平 |
| 作者单位： | 北京大学微电子学研究院 |
| 基金项目： | 本文写作过程中得到了王阳元院士的大力指导和帮助,在此深表感谢.同时也感谢张兴教授所提供的帮助. |
| 摘 要： | 集成电路工艺加工能力的不断提高给设计工作带来了多方面需要解决的问题。本文主要探讨目前在集成电路设计领域各个方面的设计技术挑战和研究热点问题。 |
| 关 键 词： | 集成电路工艺 设计领域 设计技术 超深亚微米工艺 加工能力 |
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