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中频磁控溅射制备氧化钨薄膜及电致变色性能研究
作者姓名:魏梦瑶  王辉  韩文芳  王红莉  苏一凡  唐春梅  代明江  石倩
摘    要:采用中频磁控溅射方法,在氧化铟(ITO)玻璃上采用氧化钨(WO3)陶瓷靶沉积薄膜,研究溅射气压对WO3薄膜结构与光学性能的影响规律,并对其电致变色行为进行了探讨.采用X射线衍射(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)分析了WO3薄膜的成分结构和表面形貌,紫外可见分光光度计和电化学工作站对薄膜的光调制性能、电致变色伏安特性、...

关 键 词:WO3薄膜  中频磁控溅射  电致变色  溅射气压  循环寿命
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