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| 小圆形平面靶倾斜磁控溅射镀膜均匀性研究 | |
| 作者姓名： | 付学成 徐锦滨 乌李瑛 黄胜利 王英 |
| 摘 要： | 基于小圆形平面靶倾斜磁控溅射的实际情况,针对靶材环形刻蚀槽与水平工件台存在夹角的特点,建立数学模型.利用MATLAB软件进行模拟仿真,研究靶材与工件台正对且高度固定时,不同夹角对膜厚分布的影响.我们发现在工件台相对靶材的水平距离上,膜厚先增加后降低.当靶材夹角适当时,在工件台固定的区域范围内,薄膜沉积速率的变化近似直线... |
| 关 键 词： | 圆形平面靶 磁控溅射 倾斜溅射 数学模型 高均匀性 |
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