| 脉冲偏压对矩形平面大弧源离子镀TiN 膜层性能的影响 |
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| 引用本文： | 林永清,巩春志,魏永强,田修波,杨士勤,关秉羽,于传跃. 脉冲偏压对矩形平面大弧源离子镀TiN 膜层性能的影响[J]. 材料研究学报, 2008, 22(4) |
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| 作者姓名： | 林永清 巩春志 魏永强 田修波 杨士勤 关秉羽 于传跃 |
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| 作者单位： | 哈尔滨工业大学材料学院现代焊接生产技术国家重点实验室,哈尔滨,150001;沈阳北宇真空设备厂,沈阳,110045;哈尔滨第一工具有限公司,哈尔滨,150020 |
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| 摘 要： | 采用矩形平面大弧源离子镀技术在201奥氏体不锈钢基体表面制备TiN硬质薄膜,研究了脉冲偏压对TiN膜层的表面形貌、相结构、硬度和耐磨性能的影响.结果表明,随着脉冲偏压的增大,薄膜中大颗粒的数目先增加后减少,这是大颗粒受到离子拖曳力和电场力双重作用的结果.存在一个最佳的脉冲偏压,使得制备出的TiN膜层具有较高的I(111)/I(200)比例和较高的耐磨性.脉冲偏压为-300 V时制备的TiN膜层具有最好的综合性能.
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| 关 键 词： | 无机非金属材料 离子镀 矩形靶 脉冲偏压 氮化钛 耐磨性 |
Influence of pulse bias on surface properties of TiN films fabricated by arc ion plating with large rectangle targets |
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| LIN Yongqing,GONG Chunzhi,WEI Yongqiang,TIAN Xiubo,YANG Shiqin,GUAN Bingyu,YU Chuanyue. Influence of pulse bias on surface properties of TiN films fabricated by arc ion plating with large rectangle targets[J]. Chinese Journal of Materials Research, 2008, 22(4) |
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| Authors: | LIN Yongqing GONG Chunzhi WEI Yongqiang TIAN Xiubo YANG Shiqin GUAN Bingyu YU Chuanyue |
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