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三层硅加速度敏感芯片BCB键合工艺研究
引用本文:刘智辉,田雷,李玉玲,尹延昭.三层硅加速度敏感芯片BCB键合工艺研究[J].传感器与微系统,2015,34(3).
作者姓名:刘智辉  田雷  李玉玲  尹延昭
作者单位:中国电子科技集团公司第四十九研究所,黑龙江哈尔滨,150001
摘    要:采用非光敏苯并环丁烯(BCB)进行MEMS压阻式加速度敏感芯片三层结构制作.BCB键合具有工艺温度低、键合表面要求低等特点,适用于芯片的圆片级封装.但是固化过程中BCB粘度随温度升高而下降,流动性变大,在毛细作用的影响下沿着微小间隙流淌,导致可动部件粘连,器件失效.通过控制BCB厚度、增加BCB阻挡槽解决了可动部件粘连问题,制作了三层硅结构的加速度敏感芯片.样品漏率小于1.0×10-10pa.m3/s,键合剪切强度大于20 MPa,能够满足航天、工业、消费电子等各领域的应用需求.

关 键 词:微机电系统  三层硅  加速度计  苯并环丁烯  键合  毛细作用

Research on BCB bonding process of acceleration sensitive chip made of three-layer Si wafer
LIU Zhi-hui,TIAN Lei,LI Yu-ling,YIN Yan-zhao.Research on BCB bonding process of acceleration sensitive chip made of three-layer Si wafer[J].Transducer and Microsystem Technology,2015,34(3).
Authors:LIU Zhi-hui  TIAN Lei  LI Yu-ling  YIN Yan-zhao
Abstract:
Keywords:MEMS  three-layer Si  accelerometer  BCB  bonding  capillary-effect
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