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纳米硅层状薄膜及其p-i-n太阳能电池的研制
引用本文:金飞,张维佳,贾士亮,丁照崇,闫兰琴,王天民,李国华. 纳米硅层状薄膜及其p-i-n太阳能电池的研制[J]. 半导体学报, 2007, 28(Z1): 333-336
作者姓名:金飞  张维佳  贾士亮  丁照崇  闫兰琴  王天民  李国华
作者单位:金飞(北京航空航天大学理学院,凝聚态物理与材料物理研究中心,北京,100083);张维佳(北京航空航天大学理学院,凝聚态物理与材料物理研究中心,北京,100083);贾士亮(北京航空航天大学理学院,凝聚态物理与材料物理研究中心,北京,100083);丁照崇(北京航空航天大学理学院,凝聚态物理与材料物理研究中心,北京,100083);闫兰琴(北京航空航天大学理学院,凝聚态物理与材料物理研究中心,北京,100083);王天民(北京航空航天大学理学院,凝聚态物理与材料物理研究中心,北京,100083);李国华(中国科学院半导体研究所,半导体超晶格国家重点实验室,北京,100083)
摘    要:通过等离子体增强化学气相沉积(PECVD)法分别制备了本征、掺磷和掺硼的氢化纳米硅薄膜(nc-Si:H),并制备出纳米硅复合层状薄膜.对薄膜样品进行了喇曼(Raman)散射谱,X射线衍射等分析测试.结果表明:掺杂元素对纳米硅薄膜的晶态比和晶粒大小存在不同程度的影响;通过薄膜表面衍射(XRD)可得到硅的(111),(220)和(311)三个晶面衍射峰;并在制得的纳米硅复合层状薄膜的基础上,制备了结构为Al/ITO/n -nc-Si:H/i-nc-Si:H/p-c-Si/Al/Ag的太阳能电池.该电池的开路电压、短路电流和填充因子与非晶硅太阳电池相比,均得到很大的提高.

关 键 词:PECVD  太阳能电池  半导体薄膜  纳米硅薄膜  层状薄膜  太阳能电池  Thin Film Solar Cells  Layer  Silicon Films  Nanocrystalline  非晶硅太阳电池  填充因子  短路电流  开路电压  结构  晶面衍射峰  薄膜表面  影响  程度  存在  晶粒大小  晶态比  元素对
文章编号:0253-4177(2007)S0-0333-04
修稿时间:2006-12-12

Monotonous Linearity Varying Stratified Nanocrystalline Silicon Films and as p-i-n Layer in Thin Film Solar Cells
Jin Fei,Zhang Weijia,Jia Shiliang,Ding Zhaochong,Yan Lanqin,Wang Tianmin,Li Guohua. Monotonous Linearity Varying Stratified Nanocrystalline Silicon Films and as p-i-n Layer in Thin Film Solar Cells[J]. Chinese Journal of Semiconductors, 2007, 28(Z1): 333-336
Authors:Jin Fei  Zhang Weijia  Jia Shiliang  Ding Zhaochong  Yan Lanqin  Wang Tianmin  Li Guohua
Abstract:
Keywords:
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