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| 等离子腐蚀Al和Al-Si合金膜存在的一些问题 | |
| 引用本文： | Kado Hirobe ,Yoshinri ,李开诚.等离子腐蚀Al和Al-Si合金膜存在的一些问题[J].微电子学,1982(4). |
| 作者姓名： | Kado Hirobe Yoshinri 李开诚 |
| 摘 要： | 通常,Al和Al-Si合金膜在大规模集成电路中作为金属互连线而被广泛采用。在Al和Al-Si合金膜中精确形成微细图形的技术,对高密度、高速度的LSI来说,是必不可少的。在各种腐蚀薄膜的方法中,平行板电极反应器中的等离子腐蚀,是薄膜中形成高分辩率图形最有效的方法之一。 平行板电极反应器等离子腐蚀技术,已由一些科技工作者研究出来。众所 |
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