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化工设备清洗技术进展
引用本文:俞晓慧,邱运仁.化工设备清洗技术进展[J].广东化工,2005,32(7):28-30.
作者姓名:俞晓慧  邱运仁
作者单位:中南大学,化学化工学院,湖南,长沙,410083;中南大学,化学化工学院,湖南,长沙,410083
摘    要:综述了化工设备污垢的形成机理及其清除方法.包括物理清洗和化学清洗等方法.介绍了一些新型清洗技术如微生物清洗、超声波清洗、激光清洗、在线清洗以及免清洗技术等.并展望了清洗技术的发展方向。

关 键 词:化工设备  清洗  物理清洗  化学清洗
修稿时间:2005年5月18日

Progress of Cleaning Technologies of Chemical Apparatus
Yu Xiaohui,Qiu Yunren.Progress of Cleaning Technologies of Chemical Apparatus[J].Guangdong Chemical Industry,2005,32(7):28-30.
Authors:Yu Xiaohui  Qiu Yunren
Abstract:The fouling mechanisms and the cleaning of chemical apparatus were reviewed,including the physical cleaning methods and chemical cleaning technologies.Some new cleaning techniques,such as the microbiology cleaning,ultrasonic cleaning,on-line cleaning and free-cleaning were also introduced.In addition,the development of cleaning was prospected.
Keywords:chemical apparatu  cleaning  physical cleaning  chemical cleaning
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