| 微透镜列阵成像光刻技术 |
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| 引用本文： | 张为国,董小春,杜春雷.微透镜列阵成像光刻技术[J].红外与激光工程,2010,39(3). |
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| 作者姓名： | 张为国 董小春 杜春雷 |
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| 作者单位： | 中国科学院光电技术研究所,四川,成都,610209 |
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| 摘 要： | 介绍了一种利用微透镜列阵投影成像光刻的周期微纳结构加工方法.该方法采用商业打印机在透明薄膜上打印的毫米至厘米尺寸图形为掩模,以光刻胶作为记录介质,以微透镜列阵为投影物镜将掩模缩小数千倍成像在光刻胶上,曝光显影后便可制备出微米、亚微米特征尺寸的周期结构列阵.基于该方法建立了微透镜列阵成像光刻系统,并以制备800 nm线宽、50 mm×50 mm面积的图形列阵为例,实现了目标图形的光刻成形,曝光时间仅为几十秒,图形边沿粗糙度低于100 nm.该方法系统结构简单、掩模制备简易、曝光时间短;为周期微纳结构的低成本、高效率制备提供了有效途径.
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| 关 键 词： | 微纳光学 成像光刻 微透镜列阵 微纳结构 |
Microlens array imaging-based photolithography technique |
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| ZHANG Wei-guo,DONG Xiao-chun,DU Chun-lei.Microlens array imaging-based photolithography technique[J].Infrared and Laser Engineering,2010,39(3). |
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| Authors: | ZHANG Wei-guo DONG Xiao-chun DU Chun-lei |
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