氮分压对多弧离子镀TiN涂层相结构及性能影响的研究 |
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引用本文: | 李晓青.氮分压对多弧离子镀TiN涂层相结构及性能影响的研究[J].真空,1990(3):1-5. |
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作者姓名: | 李晓青 |
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作者单位: | 北京量具刃具厂 |
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摘 要: | 本文利用多弧离子镀设备沉积了 TiN薄膜,对不同工艺条件下沉积TiN的薄膜用 X射线衍射方法进行了研究,给出了薄膜相结构随氮分压变化的实验结果,测定了薄膜 的显微硬度.用SEM方法观察了 TiN涂层的组织形貌。指出:氮分压为多弧离子镀 的一个重要工艺参数,我们适当地控制氮分压,可以制作出性能良好的TiN薄膜。
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关 键 词: | 氮分压 多弧离子镀 涂层 相结构 |
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