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| 圆柱形磁控溅射源I—V特性的实验研究 | |
| 引用本文： | 姜增奎,李云奇.圆柱形磁控溅射源I—V特性的实验研究[J].真空,1989(6):4-7. |
| 作者姓名： | 姜增奎 李云奇 |
| 作者单位： | 东北工学院 (姜增奎，李云奇)，东北工学院(王宝霞) |
| 摘 要： | 本文讨论了圆柱形磁控溅射源（简称溅射源）工作气体压强（Ｐ）对Ｉ－Ｖ特性的影 响；对溅射源Ｉ－Ｖ特性作了计算，为理论分析溅射源Ｉ－Ｖ特性提供了可能：并根据 计算和实验结果，给出了溅射源最佳工艺参数。 |
| 关 键 词： | 溅射 电流 电压 计算法 |
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