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硅基LiNbO3薄膜的光波导性能研究
引用本文:王新昌,叶志镇,李士玲,曹亮亮,赵炳辉.硅基LiNbO3薄膜的光波导性能研究[J].真空科学与技术学报,2005,25(4):245-248.
作者姓名:王新昌  叶志镇  李士玲  曹亮亮  赵炳辉
作者单位:1. 浙江大学硅材料国家重点实验室,杭州,310027
2. 山东大学物理与微电子学院,济南,250100
摘    要:利用脉冲激光沉积技术在硅衬底上生长高c轴取向LiNbO3薄膜.研究了衬底温度对薄膜质量的影响,发现衬底温度在600 ℃时获得了具有优异结晶质量的高c轴取向LiNbO3薄膜.采用扫描电镜和透射电镜分别对薄膜的表面、截面进行了分析,结果表明,薄膜表面光滑,晶粒均匀致密,薄膜呈与衬底垂直的柱状结构.棱镜耦合技术制备的LiNbO3薄膜具有优异的光波导性能,光损耗为1.14 dB/cm.

关 键 词:脉冲激光沉积  LiNbO3薄膜  光波导  硅衬底
文章编号:1672-7126(2005)04-0245-04
收稿时间:2005-03-09
修稿时间:2005年3月9日

Optical Waveguide Properties of LiNbO3 Thin Films on Silicon Substrates
Wang Xinchang,Ye Zhizhen,Li Shiling,Cao Liangliang,Zhao Binghui.Optical Waveguide Properties of LiNbO3 Thin Films on Silicon Substrates[J].JOurnal of Vacuum Science and Technology,2005,25(4):245-248.
Authors:Wang Xinchang  Ye Zhizhen  Li Shiling  Cao Liangliang  Zhao Binghui
Abstract:
Keywords:Pulsed laser deposition  LiNbO3 thin films  Optical waveguide  Silicon substrate
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