| 低温磁控溅射制备AZO薄膜及绒面研究 |
| |
| 引用本文： | 张宽翔,彭寿,姚婷婷,曹欣,金克武,徐根保.低温磁控溅射制备AZO薄膜及绒面研究[J].稀有金属材料与工程,2017,46(3):818-823. |
| |
| 作者姓名： | 张宽翔 彭寿 姚婷婷 曹欣 金克武 徐根保 |
| |
| 作者单位： | 浮法玻璃新技术国家重点实验室；蚌埠玻璃工业设计研究院,浮法玻璃新技术国家重点实验室；蚌埠玻璃工业设计研究院,浮法玻璃新技术国家重点实验室；蚌埠玻璃工业设计研究院,浮法玻璃新技术国家重点实验室；蚌埠玻璃工业设计研究院,浮法玻璃新技术国家重点实验室；蚌埠玻璃工业设计研究院,浮法玻璃新技术国家重点实验室；蚌埠玻璃工业设计研究院 |
| |
| 基金项目： | 中国建筑材料集团有限公司集团经费资助 |
| |
| 摘 要： | 采用直流射频耦合磁控溅射技术,以氧化锌掺铝(AZO,2%Al_2O_3,质量分数)陶瓷靶为靶材,在玻璃基片上低温沉积AZO薄膜,并采用质量分数为0.5%的HCl溶液刻蚀制备绒面AZO薄膜,通过XRD、SEM、分光光度计、霍尔效应测试系统、光电雾度仪等设备重点研究工作压强对直流射频耦合磁控溅射制备AZO薄膜的晶相结构、表面形貌、光电性能以及后期制绒的影响。研究表明,直流射频耦合磁控溅射可以在低温下制备性能优异的AZO薄膜,且随着工作压强的减小,致密性增强,光电性能改善,后期刻蚀得到具有良好陷光作用的绒面结构。在工作压强0.5 Pa下,低温制备的AZO薄膜电阻率达到3.55×10~(-4)Ω·cm,薄膜可见光透过达到88.36%,刻蚀后电阻率为4.19×10~(-4)Ω·cm,可见光透过率89.59%,雾度达24.7%。
|
| 关 键 词： | 直流射频耦合磁控溅射 AZO薄膜 工作压强 绒面 |
| 收稿时间： | 2014/11/24 0:00:00 |
| 修稿时间： | 2014/12/18 0:00:00 |
Study on Preparation and Their Textured Structures of AZO Thin Films by Magnetron Sputtering at Low Temperature |
| |
| Zhang Kuanxiang,Peng Shou,Yao Tingting,Cao Xin,Jin Kewu and Xu Genbao.Study on Preparation and Their Textured Structures of AZO Thin Films by Magnetron Sputtering at Low Temperature[J].Rare Metal Materials and Engineering,2017,46(3):818-823. |
| |
| Authors: | Zhang Kuanxiang Peng Shou Yao Tingting Cao Xin Jin Kewu and Xu Genbao |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | DC coupled RF magnetron sputtering AZO thin films working pressure textured structures |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ |
| 点击此处可从《稀有金属材料与工程》浏览原始摘要信息 |
|
点击此处可从《稀有金属材料与工程》下载全文 |
|
