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凹型Si微透镜阵列的制作
引用本文:何苗,易新建,程祖海,刘鲁勤,王英瑞. 凹型Si微透镜阵列的制作[J]. 红外与毫米波学报, 2002, 21(1): 33-36
作者姓名:何苗  易新建  程祖海  刘鲁勤  王英瑞
作者单位:华中理工大学激光技术国家重点实验室,湖北,武汉,430074;中国航天总公司二院25所,北京,100854
基金项目:国家自然科学基金(编号600086003)资助项目
摘    要:提出了一种新的曲率倒易法首次成功地在Si衬底上制作出64×256凹柱面折射微透镜阵列,扫描电子显微镜(SEM)显示微透镜阵列为表面轮廓清晰的凹柱面阵列,表面探针测试结果显示凹微透镜阵列表面光滑、单元重复性好,其平均凹深为2.643μm,凹深非均匀性为8.45%,平均焦距为-47.08μm.

关 键 词:Si  凹微透镜阵列  氩离子束刻蚀
收稿时间:2001-04-09
修稿时间:2001-04-09

FABRICATION OF Si CONCAVE MICROLENSES ARRAY
HE Miao YI Xin-Jian CHENG Zu-Hai. FABRICATION OF Si CONCAVE MICROLENSES ARRAY[J]. Journal of Infrared and Millimeter Waves, 2002, 21(1): 33-36
Authors:HE Miao YI Xin-Jian CHENG Zu-Hai
Abstract:elements Si concave microlenses array was fabricated by a new method, i.e. the curvature inversion method. Scanning electron microscope (SEM) shows that microlenses have distinct concave cylinder contour. Surface stylus measurement shows that the concave microlenses array has smooth surface and uniform dimensions. For the concave microlenses array, the average depth of concave spherical surface is 2.643μm, the nonuniformity of the depth is 8.45% and the average focal length is -47.08μm.
Keywords:Si   concave microlenses array   Ar ion beam etching.
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