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| 空间滤波技术应用于光掩模缺陷的检查 | |
| 引用本文： | 付丽珍 ,王家楫.空间滤波技术应用于光掩模缺陷的检查[J].半导体技术,1982(6). |
| 作者姓名： | 付丽珍 王家楫 |
| 摘 要： | 一、前言 光掩模的图形质量对LSI的电路性能和成品率影响很大。根据经典统计分布原理,可推得随机缺陷密度与IC成品率的关系是: Y=multiply from l=1 to(1/(1 D_lq_lA))(1) 式中:D_l——第l块掩模上的平均缺陷密度; A——IC单元电路芯片面积; l——光刻次数; q_l——缺陷的置命度。 根据式(1)可得到图1所示的曲线,这组曲线 |
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