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| 国外电子束曝光设备的新进展 | |
| 作者姓名： | 王琬 |
| 作者单位： | 电子工业部元器件管理局情报处 |
| 摘 要： | <正> 一、前言从六十年代末以来,电子束曝光设备在技术上的进展是十分显著的。由于电子束曝光设备具有高分辨率、高精度和使用灵活的特点,在集成电路的制造工艺中,主要用于制版(1×掩模版、10×和5×中间版)和在硅片上直接扫描制作电路图形。目前,电子束曝光设备已经成为大规模集成电路和超大规模集成电路 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
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