一种用于淀积铁磁膜的新型磁控靶研究 |
| |
引用本文: | 张怀武,刘颖力.一种用于淀积铁磁膜的新型磁控靶研究[J].真空,1993(6):49-52. |
| |
作者姓名: | 张怀武 刘颖力 |
| |
作者单位: | 电子科技大学信材学院303室 成都市610054
(张怀武),电子科技大学信材学院303室 成都市610054(刘颖力) |
| |
摘 要: | 本文给出了一种新型铁磁靶设计方法,并用设计的DC磁控靶成功地制备出了用于磁头的FeSiAl合金薄膜,性能分析表明用该靶制备的膜可满足MIG磁头的指标。
|
关 键 词: | 磁控靶 黑色金属合金 铁磁膜 磁头 |
本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录! |
|