| 水合抛光加工的运动学特性 |
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| 引用本文： | 李刚,王扬渝,文东辉. 水合抛光加工的运动学特性[J]. 机械工程学报, 2015, 51(11) |
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| 作者姓名： | 李刚 王扬渝 文东辉 |
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| 作者单位： | 浙江工业大学特种装备制造与先进加工技术教育部重点实验室 杭州 310032 |
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| 基金项目： | 国家科技支撑计划，国家自然科学基金，浙江省科技计划，浙江省自然科学基金杰出青年基金 |
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| 摘 要： | 建立了旋摆驱动方式下水合平面抛光过程中工件的运动学模型,揭示了抛光盘开孔方式对蓝宝石衬底的水合抛光均匀性影响规律。旋摆驱动条件下,杉木抛光盘的开孔方式对蓝宝石衬底水合抛光加工全局均匀性和局部均匀性具有重要的作用,局部均匀性的阶梯状分布为直线、圆环和螺旋线开孔方式的共性特征。与直线、圆环开孔方式相比,在一定的参数取值条件下,螺旋线开孔方式可更好地实现水合抛光加工的全局均匀性和局部均匀性要求。
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| 关 键 词： | 旋摆驱动 水合抛光 蓝宝石衬底 轨迹均匀性 |
Uniformity of Kinematic Trajectory in Hydration Polishing Process |
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| LI Gang,WANG Yangyu,WEN Donghui. Uniformity of Kinematic Trajectory in Hydration Polishing Process[J]. Chinese Journal of Mechanical Engineering, 2015, 51(11) |
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| Authors: | LI Gang WANG Yangyu WEN Donghui |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | rotating and swing drive hydration polishing sapphire wafer uniformity of kinematic trajectory |
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