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| 日本开发出新的光学记录材料 | |
| 作者姓名： | 新文 |
| 摘 要： | 日本东京大学工学院新近开发出一种利用光致变色现象的新光学记录材料——三氧化钼,预计它可以用于作为一种能重新写的高强度光学记录材料。在试验中,用新材料在玻璃板上形成1μm厚,1cm~2的透明薄膜。这个薄膜在水中是不稳定的,但遇到电流并 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
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