| Si基太阳电池用SiNx:H薄膜的研究进展 |
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| 引用本文： | 唐煜,周春兰,贾晓昀,王文静.Si基太阳电池用SiNx:H薄膜的研究进展[J].材料导报,2008,22(Z1):247-250. |
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| 作者姓名： | 唐煜 周春兰 贾晓昀 王文静 |
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| 作者单位： | 1. 中国科学院电工研究所,北京,100080
2. 北京交通大学光电子技术研究所,北京,100044 |
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| 基金项目： | 国家高技术研究发展计划(863计划) |
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| 摘 要： | SiNx:H薄膜因为具有良好的减反射性质和钝化作用,在晶体硅太阳电池(单晶硅、多晶硅)的研究和生产中得到越来越广泛的应用.介绍了SiNx:H薄膜在硅基太阳电池中的减反射和钝化作用,主要制备方法等研究现状,以及面临的问题和今后的研究趋势.
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| 关 键 词： | 太阳电池 钝化 减反射 |
Research Progress in SiNx: H Film for Silicon Solar Cells |
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| TANG Yu,ZHOU Chunlan,JIA Xiaoyun,WANG Wenjin.Research Progress in SiNx: H Film for Silicon Solar Cells[J].Materials Review,2008,22(Z1):247-250. |
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| Authors: | TANG Yu ZHOU Chunlan JIA Xiaoyun WANG Wenjin |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | SiNx H |
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