| 溅射电压和铝掺杂对透明导电氧化锌薄膜性能的影响 |
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| 引用本文： | 施昌勇,沈克明.溅射电压和铝掺杂对透明导电氧化锌薄膜性能的影响[J].稀有金属,2000,24(2):154-156. |
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| 作者姓名： | 施昌勇 沈克明 |
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| 作者单位： | 1. 北京服装学院基础部,北京100029
2. 中国科学院等离子体物理所,合肥230031 |
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| 摘 要： | 研究了用微波ＥＣＲ等离子体反应溅射制备透明导电氧化锌薄膜靶压及铝的掺入对薄膜电阻率和透光率的影响。制香电阻率为１０＾－５Ω．ｍ数量级，可见光平均透光率大于８０％的透明导电ＺｎＯ：Ａｌ（ＡＺＯ）膜。
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| 关 键 词： | 透明导电膜 性能 溅射电压 氧化锌 铝掺杂 |
Influence of Sputtering Voltage and Al Dopping on Electrical and Optical Characteristics of Transparent Conducting ZnO Thin Film |
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| Shi Changyong,Sheng Keming.Influence of Sputtering Voltage and Al Dopping on Electrical and Optical Characteristics of Transparent Conducting ZnO Thin Film[J].Chinese Journal of Rare Metals,2000,24(2):154-156. |
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| Authors: | Shi Changyong Sheng Keming |
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