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| 浸没式光刻技术 | |
| 引用本文： | 吴龙海.浸没式光刻技术[J].微纳电子技术,2004,41(11):46-48. |
| 作者姓名： | 吴龙海 |
| 作者单位： | 上海宏力半导体制造有限公司光刻工程部,上海,201203 |
| 摘 要： | 综合叙述了浸没式光刻技术的基本工作原理和相对于157nm干式光刻技术的优势,简要介绍了当前的研发动态并对其具体实现的问题进行探讨。 |
| 关 键 词： | 浸没式 光刻 193nm |
| 文章编号： | 1671-4776(2004)11-0046-03 |
| 修稿时间： | 2004年5月26日 |
Introduction of immersion photolithography |
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| WU Long-hai.Introduction of immersion photolithography[J].Micronanoelectronic Technology,2004,41(11):46-48. | |
| Authors: | WU Long-hai |
| Abstract: | |
| Keywords: | immersion photolithography 193 nm |
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