DMD无掩模光刻机主控软件系统的设计 |
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引用本文: | 冯金花,胡松,李艳丽,何渝.DMD无掩模光刻机主控软件系统的设计[J].微纳电子技术,2014(10). |
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作者姓名: | 冯金花 胡松 李艳丽 何渝 |
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作者单位: | 中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室; |
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摘 要: | 根据无掩模光刻机的整体结构和工作流程,开发了一款适用于DMD无掩模光刻机的曝光软件。对系统进行了整合,运用开发环境VS2010实现了各个独立的模块的设计。通过串口通信的方式与下位机建立连接,实现对工件台的控制;依托Access2007创建数据库,管理曝光数据及工艺文件;采用图像处理算法和坐标转换技术,实现了曝光过程中的实时自动调焦和套刻对准功能,具有良好的人机交互界面。实验结果表明,软件界面设计友好,上、下位机数据传输稳定,能对工艺文件和曝光实验数据进行管理;上位机软件实现的自动调焦和自动对准功能具有很好的稳定性和可靠性。
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关 键 词: | 无掩模光刻 数字光刻 数据管理 调焦 对准 |
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