Mg_xZn_(1-x)O压电薄膜表面粗糙度对SMR性能的影响 |
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引用本文: | 沈勇,刘一剑,杨翰林,段力,张亚非.Mg_xZn_(1-x)O压电薄膜表面粗糙度对SMR性能的影响[J].微纳电子技术,2014(12). |
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作者姓名: | 沈勇 刘一剑 杨翰林 段力 张亚非 |
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作者单位: | 上海交通大学电子信息与电气工程学院; |
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基金项目: | 国家科技项目(2011AA050504) |
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摘 要: | 固体装配型谐振器(SMR)由布拉格反射层上的两个电极及它们之间的压电层制备而成。布拉格层是厚度为1/4波长的高低声阻层结构。ZnO压电薄膜是用来制备SMR的传统压电材料,但却拥有低的纵向声学速度和相对固定的频率响应。由ZnO和MgO合成的三元化合物MgxZn1-xO薄膜是一种高声速、高电阻的压电材料,有很大的潜能用于SMR。MgxZn1-xO薄膜表面的粗糙度对SMR的谐振特性有很大影响。通过射频磁控溅射的方法制备了MgxZn1-xO薄膜,研究了不同射频磁控溅射条件对MgxZn1-xO薄膜表面粗糙度的影响。通过控制淀积条件,获得了c轴择优取向的表面光滑的MgxZn1-xO压电薄膜。通过优化MgxZn1-xO薄膜表面粗糙度,SMR的性能能够得到显著提高。
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关 键 词: | 磁控溅射 压电材料 表面粗糙度 固体装配型谐振器(SMR) MgxZn-xO |
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