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| 低温高磁感取向硅钢常化工艺中间冷却制度的研究 | |
| 引用本文： | 颜建新,樊立峰,仇圣桃,齐渊洪.低温高磁感取向硅钢常化工艺中间冷却制度的研究[J].热加工工艺,2014(11):27-30,37. |
| 作者姓名： | 颜建新 樊立峰 仇圣桃 齐渊洪 |
| 摘 要： | 借助电子背散射(EBSD)技术对AlN为主抑制剂的Hi-B取向硅钢常化工艺的中间冷却制度进行了研究。结果表明:常化后试样均发生了完全再结晶,在60℃/s冷速下组织最均匀;在合适的冷却制度下常化板表层保留了强的Goss织构,它深入到1/4厚度处,并且形成对Goss织构有利的强{554}225织构。 |
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